利用电化学刻蚀ェ艺制备P型硅基大孔深通道阵列

doi:10.3969/j.issn.1000-1093.2008.12.017

兵工学报 ›› 2008, Vol. 29 ›› Issue (12) : 1497-1500. DOI: 10.3969/j.issn.1000-1093.2008.12.017

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利用电化学刻蚀ェ艺制备P型硅基大孔深通道阵列

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Formation of p-Type Silicon-based Deep Macropore Channel Array by Utilizing Electrochemical Etching Technology

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收稿日期	出版日期
2008-05-29	2008-12-31
发布日期
2014-12-25

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