宽束冷阴极和部端霍尔离子源对薄膜透过率和应力影响的比较

主管：中国兵器工业集团有限公司

主编：纪明

ISSN 1002-2082

CN 61-1171/O4

主办：中国兵器工业第二〇五研究所
　　　中国兵工学会

出版：《应用光学》编辑部

《应用光学》创刊于1980年，国内外公开发行，刊号为ISSN 1002-2082, CN-61-1171/O4,是中国兵器工业第二Ο五研究所和中国兵工学会主办的技术类期刊，2006年4月被收录为“中国科技核心期刊”，2008年12月被收录为“中文核心期刊”，是美国《化学文摘》（CA）、《剑桥科学文摘》（CSA）、俄罗斯《文摘杂志》（AJ）、英国《科学文摘》（INSPEC）、《乌利希期刊指南》（UIPD）、荷兰Scopus等国际重要检索机构的收录期刊。

宽束冷阴极和部端霍尔离子源对薄膜透过率和应力影响的比较

刘文军;弥谦;秦君君;方勇;杨利红

Influence of Broad Beam Cold Cathode and End Hall Ion Sources on Transmissivity and Stress

LIU Wen-jun;MI Qian;QIN Jun-jun;FANG Yong;YANG Li-hong

应用光学 . 2005, (2): 51 -53 .