宽束冷阴极和部端霍尔离子源对薄膜透过率和应力影响的比较

刘文军;弥谦;秦君君;方勇;杨利红

应用光学 ›› 2005, Vol. 26 ›› Issue (2) : 51-53.

EN 投稿 期刊 文章 图表 检索
高级检索

  • 主管：中国兵器工业集团有限公司

    主编：纪明

    ISSN 1002-2082

    CN 61-1171/O4

  • 主办：中国兵器工业第二〇五研究所
    　　　中国兵工学会

    出版：《应用光学》编辑部

《应用光学》创刊于1980年，国内外公开发行，刊号为ISSN 1002-2082, CN-61-1171/O4,是中国兵器工业第二Ο五研究所和中国兵工学会主办的技术类期刊，2006年4月被收录为“中国科技核心期刊”，2008年12月被收录为“中文核心期刊”，是美国《化学文摘》（CA）、《剑桥科学文摘》（CSA）、俄罗斯《文摘杂志》（AJ）、英国《科学文摘》（INSPEC）、《乌利希期刊指南》（UIPD）、荷兰Scopus等国际重要检索机构的收录期刊。
应用光学 ›› 2005, Vol. 26 ›› Issue (2) : 51-53.

宽束冷阴极和部端霍尔离子源对薄膜透过率和应力影响的比较

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Influence of Broad Beam Cold Cathode and End Hall Ion Sources on Transmissivity and Stress

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
本文二维码
文章历史 +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2005, 26(2): 51-53
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}. 2005, 26(2): 51-53
中图分类号：

基金

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

{{article.reference}}

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}

Accesses

Citation

Detail
段落导航
相关文章

/

〈 〉