静/动态刻蚀对熔石英表面质量和激光损伤的影响

主管：中国兵器工业集团有限公司

主编：纪明

ISSN 1002-2082

CN 61-1171/O4

主办：中国兵器工业第二〇五研究所
　　　中国兵工学会

出版：《应用光学》编辑部

《应用光学》创刊于1980年，国内外公开发行，刊号为ISSN 1002-2082, CN-61-1171/O4,是中国兵器工业第二Ο五研究所和中国兵工学会主办的技术类期刊，2006年4月被收录为“中国科技核心期刊”，2008年12月被收录为“中文核心期刊”，是美国《化学文摘》（CA）、《剑桥科学文摘》（CSA）、俄罗斯《文摘杂志》（AJ）、英国《科学文摘》（INSPEC）、《乌利希期刊指南》（UIPD）、荷兰Scopus等国际重要检索机构的收录期刊。

静/动态刻蚀对熔石英表面质量和激光损伤的影响

王志强;杨科;李源;严鸿维;袁晓东;张丽娟;刘太祥

Effect of static/dynamic etching on surface quality andlaser-induced damage of fused silica

Wang Zhiqiang;Yang Ke;Li Yuan;Yan Hongwei;Yuan Xiaodong;Zhang Lijuan;Liu Taixiang

应用光学 . 2017, (5): 837 -843 . DOI: 10.5768/JAO201738.0507003