氮氧化硅薄膜红外吸收特性的研究

doi:10.3969/j.issn.1000-1093.2011.10.014

兵工学报 ›› 2011, Vol. 32 ›› Issue (10) : 1255-1259. DOI: 10.3969/j.issn.1000-1093.2011.10.014

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氮氧化硅薄膜红外吸收特性的研究

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Infrared Absorption Properties of Silicon Oxynitride Films

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收稿日期	修回日期	出版日期
2010-12-13	2010-12-13	2011-10-31
发布日期
2014-05-04

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