基于氧化铝缓冲层的Si基ZnO薄膜研究

doi:10.3969/j.issn.1000-1093.2010.08.011

兵工学报 ›› 2010, Vol. 31 ›› Issue (8) : 1063-1066. DOI: 10.3969/j.issn.1000-1093.2010.08.011

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基于氧化铝缓冲层的Si基ZnO薄膜研究

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Study on Si-based ZnO Thin Film Grown on Aluminum Oxide Buffer Layer

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收稿日期	修回日期	出版日期
2009-06-04	2009-06-04	2010-08-31
发布日期
2014-05-04

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