双波长敏感的非水溶性光致聚合物存储特性研究

主管：中国兵器工业集团有限公司

主编：纪明

ISSN 1002-2082

CN 61-1171/O4

主办：中国兵器工业第二〇五研究所
　　　中国兵工学会

出版：《应用光学》编辑部

《应用光学》创刊于1980年，国内外公开发行，刊号为ISSN 1002-2082, CN-61-1171/O4,是中国兵器工业第二Ο五研究所和中国兵工学会主办的技术类期刊，2006年4月被收录为“中国科技核心期刊”，2008年12月被收录为“中文核心期刊”，是美国《化学文摘》（CA）、《剑桥科学文摘》（CSA）、俄罗斯《文摘杂志》（AJ）、英国《科学文摘》（INSPEC）、《乌利希期刊指南》（UIPD）、荷兰Scopus等国际重要检索机构的收录期刊。

双波长敏感的非水溶性光致聚合物存储特性研究

李展华;章鹤龄;邵继宝;徐向敏;石磊

Holographic storage characteristic of water-resistant photopolymer sensitive to two wavelengths

LI Zhan-hua;ZHANG He-ling;SHAO Ji-bao;XU Xiang-min;SHI Lei

应用光学 . 2009, (3): 442 -447 .