基底温度对电子束蒸发制备氧化铝薄膜的影响

主管：中国兵器工业集团有限公司

主编：纪明

ISSN 1002-2082

CN 61-1171/O4

主办：中国兵器工业第二〇五研究所
　　　中国兵工学会

出版：《应用光学》编辑部

《应用光学》创刊于1980年，国内外公开发行，刊号为ISSN 1002-2082, CN-61-1171/O4,是中国兵器工业第二Ο五研究所和中国兵工学会主办的技术类期刊，2006年4月被收录为“中国科技核心期刊”，2008年12月被收录为“中文核心期刊”，是美国《化学文摘》（CA）、《剑桥科学文摘》（CSA）、俄罗斯《文摘杂志》（AJ）、英国《科学文摘》（INSPEC）、《乌利希期刊指南》（UIPD）、荷兰Scopus等国际重要检索机构的收录期刊。

基底温度对电子束蒸发制备氧化铝薄膜的影响

王松林;杨崇民;张建付;刘青龙;黎明;米高园;王慧娜

Effect of substrate temperature on alumina thin films prepared by electron beam evaporation

WANG Song-lin;YANG Chong-min;ZHANG Jian-fu;LIU Qing-long;LI Ming;MI Gao-yuan;WANG Hui-na

应用光学 . 2013, (5): 764 -767 .