低磁控溅射率MCP防离子反馈膜工艺研究

朱宇峰;张太民;聂晶;师宏立

应用光学 ›› 2008, Vol. 29 ›› Issue (3) : 360-363.

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  • 主管：中国兵器工业集团有限公司

    主编：纪明

    ISSN 1002-2082

    CN 61-1171/O4

  • 主办：中国兵器工业第二〇五研究所
    　　　中国兵工学会

    出版：《应用光学》编辑部

《应用光学》创刊于1980年，国内外公开发行，刊号为ISSN 1002-2082, CN-61-1171/O4,是中国兵器工业第二Ο五研究所和中国兵工学会主办的技术类期刊，2006年4月被收录为“中国科技核心期刊”，2008年12月被收录为“中文核心期刊”，是美国《化学文摘》（CA）、《剑桥科学文摘》（CSA）、俄罗斯《文摘杂志》（AJ）、英国《科学文摘》（INSPEC）、《乌利希期刊指南》（UIPD）、荷兰Scopus等国际重要检索机构的收录期刊。
应用光学 ›› 2008, Vol. 29 ›› Issue (3) : 360-363.

低磁控溅射率MCP防离子反馈膜工艺研究

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Preparation of ion-feedback barrier film on MCP

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