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主管:中国兵器工业集团有限公司
主编:纪明
ISSN 1002-2082
CN 61-1171/O4
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主办:中国兵器工业第二〇五研究所
中国兵工学会出版:《应用光学》编辑部
主管:中国兵器工业集团有限公司
主编:纪明
ISSN 1002-2082
CN 61-1171/O4
主办:中国兵器工业第二〇五研究所
中国兵工学会
出版:《应用光学》编辑部
一种利用散斑干涉和灰度等级测量纳米级位移的新方法
New method for displacement measurement in nanometer level using speckle interference and gray level
纳米级位移 / 灰度等级 / Savitzky-Golay滤波器 / 散斑干涉 {{custom_keyword}} /
Savitzky-Golay filter / speckle interference / nanometer deformation / gray level {{custom_keyword}} /
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