NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化

李杰;林妩媚;廖志杰

应用光学 ›› 2019, Vol. 40 ›› Issue (4) : 575-582.

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  • 主管：中国兵器工业集团有限公司

    主编：纪明

    ISSN 1002-2082

    CN 61-1171/O4

  • 主办：中国兵器工业第二〇五研究所
    　　　中国兵工学会

    出版：《应用光学》编辑部

《应用光学》创刊于1980年，国内外公开发行，刊号为ISSN 1002-2082, CN-61-1171/O4,是中国兵器工业第二Ο五研究所和中国兵工学会主办的技术类期刊，2006年4月被收录为“中国科技核心期刊”，2008年12月被收录为“中文核心期刊”，是美国《化学文摘》（CA）、《剑桥科学文摘》（CSA）、俄罗斯《文摘杂志》（AJ）、英国《科学文摘》（INSPEC）、《乌利希期刊指南》（UIPD）、荷兰Scopus等国际重要检索机构的收录期刊。
应用光学 ›› 2019, Vol. 40 ›› Issue (4) : 575-582. DOI: 10.5768/JAO201940.0401008

NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Optimization of polarization aberration for NA1.35 lithographic projection optical system

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2019, 40(4): 575-582 https://doi.org/10.5768/JAO201940.0401008
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}. 2019, 40(4): 575-582 https://doi.org/10.5768/JAO201940.0401008
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}

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