基片温度对磁控溅射HfO2薄膜结构和性能影响分析

doi:10.5768/JAO201637.0603001

应用光学 ›› 2016, Vol. 37 ›› Issue (6) : 872-879. DOI: 10.5768/JAO201637.0603001

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Effect of substrate temperature on structure and properties of HfO2 thin films prepared by magnetron sputtering

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收稿日期	修回日期	出版日期
2016-06-02	2016-08-01	2016-11-15
发布日期
2016-11-15

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